برقی مقناطیسی مداخلت سے ویکیوم مطابقت تک: لیتھوگرافی مشینوں میں گرینائٹ کے اڈوں کی ناقابل تبدیلی۔

میں
سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ کے میدان میں، بنیادی آلات کے طور پر جو چپ کی تیاری کے عمل کی درستگی کا تعین کرتا ہے، فوٹو لیتھوگرافی مشین کے اندرونی ماحول کا استحکام انتہائی اہمیت کا حامل ہے۔ انتہائی بالائے بنفشی روشنی کے منبع کے جوش سے لے کر نانوسکل پریزیشن موشن پلیٹ فارم کے آپریشن تک، ہر لنک میں کوئی معمولی انحراف نہیں ہو سکتا۔ گرینائٹ بیسز، منفرد خصوصیات کی ایک سیریز کے ساتھ، فوٹو لیتھوگرافی مشینوں کے مستحکم آپریشن کو یقینی بنانے اور فوٹو لیتھوگرافی کی درستگی کو بڑھانے میں بے مثال فوائد کا مظاہرہ کرتے ہیں۔ میں
شاندار برقی مقناطیسی شیلڈنگ کارکردگی
فوٹو لیتھوگرافی مشین کا اندرونی حصہ ایک پیچیدہ برقی مقناطیسی ماحول سے بھرا ہوا ہے۔ الیکٹرو میگنیٹک مداخلت (EMI) جیسے انتہائی الٹرا وائلٹ لائٹ ذرائع، ڈرائیو موٹرز، اور ہائی فریکوئنسی پاور سپلائیز جیسے اجزاء سے پیدا ہوتی ہے، اگر مؤثر طریقے سے کنٹرول نہیں کیا جاتا ہے، تو آلات کے اندر درست الیکٹرانک اجزاء اور آپٹیکل سسٹمز کی کارکردگی کو سنجیدگی سے متاثر کرے گا۔ مثال کے طور پر، مداخلت فوٹو لیتھوگرافی کے نمونوں میں معمولی انحراف کا سبب بن سکتی ہے۔ اعلی درجے کی مینوفیکچرنگ کے عمل میں، یہ چپ پر ٹرانزسٹر کے غلط کنکشن کی طرف لے جانے کے لیے کافی ہے، جس سے چپ کی پیداوار میں نمایاں کمی واقع ہوتی ہے۔ میں
گرینائٹ ایک غیر دھاتی مواد ہے اور خود سے بجلی نہیں چلاتا ہے۔ دھاتی مواد کی طرح اندر آزاد الیکٹرانوں کی حرکت کی وجہ سے کوئی برقی مقناطیسی انڈکشن رجحان نہیں ہے۔ یہ خصوصیت اسے قدرتی برقی مقناطیسی شیلڈنگ باڈی بناتی ہے، جو اندرونی برقی مقناطیسی مداخلت کے ٹرانسمیشن کے راستے کو مؤثر طریقے سے روک سکتی ہے۔ جب بیرونی برقی مقناطیسی مداخلت کے ذریعہ سے پیدا ہونے والا متبادل مقناطیسی فیلڈ گرینائٹ بیس تک پھیلتا ہے، چونکہ گرینائٹ غیر مقناطیسی ہے اور اسے مقناطیسی نہیں کیا جا سکتا، اس لیے متبادل مقناطیسی میدان میں گھسنا مشکل ہوتا ہے، اس طرح بیس پر نصب فوٹو لیتھوگرافی مشین کے بنیادی اجزاء کی حفاظت ہوتی ہے، جیسا کہ پریسینٹس ڈیوائسز کے اثر و رسوخ سے۔ برقی مقناطیسی مداخلت اور فوٹو لیتھوگرافی کے عمل کے دوران پیٹرن کی منتقلی کی درستگی کو یقینی بنانا۔ میں

بہترین ویکیوم مطابقت
چونکہ انتہائی الٹرا وایلیٹ لائٹ (EUV) ہوا سمیت تمام مادوں کے ذریعے آسانی سے جذب ہو جاتی ہے، اس لیے EUV لتھوگرافی مشینوں کو ویکیوم ماحول میں کام کرنا چاہیے۔ اس وقت، ویکیوم ماحول کے ساتھ آلات کے اجزاء کی مطابقت خاص طور پر اہم ہو جاتی ہے۔ ویکیوم میں، مواد تحلیل، desorb اور گیس چھوڑ سکتا ہے. خارج ہونے والی گیس نہ صرف EUV روشنی کو جذب کرتی ہے، روشنی کی شدت اور ترسیل کی کارکردگی کو کم کرتی ہے، بلکہ آپٹیکل لینز کو بھی آلودہ کر سکتی ہے۔ مثال کے طور پر، پانی کے بخارات لینسوں کو آکسائڈائز کر سکتے ہیں، اور ہائیڈرو کاربن لینسوں پر کاربن کی تہوں کو جمع کر سکتے ہیں، جس سے لتھوگرافی کے معیار کو شدید متاثر ہوتا ہے۔ میں
گرینائٹ میں مستحکم کیمیائی خصوصیات ہیں اور ویکیوم ماحول میں بمشکل گیس جاری کرتا ہے۔ پیشہ ورانہ جانچ کے مطابق، مصنوعی فوٹو لیتھوگرافی مشین ویکیوم ماحول میں (جیسے کہ انتہائی صاف ویکیوم ماحول جس میں مرکزی چیمبر میں الیومینیشن آپٹیکل سسٹم اور امیجنگ آپٹیکل سسٹم واقع ہے، جس کے لیے H₂O <10⁻⁵ Pa، CₓHᵧ کی ضرورت ہوتی ہے)، گیس کی بنیاد کی شرح 10 سے باہر ہوتی ہے۔ انتہائی کم، دوسرے مواد جیسے دھاتوں سے بہت کم۔ یہ فوٹو لیتھوگرافی مشین کے اندرونی حصے کو طویل عرصے تک اعلی ویکیوم ڈگری اور صفائی کو برقرار رکھنے کے قابل بناتا ہے، ٹرانسمیشن کے دوران EUV روشنی کی اعلی ترسیل کو یقینی بناتا ہے اور آپٹیکل لینز کے لیے انتہائی صاف استعمال کے ماحول کو یقینی بناتا ہے، آپٹیکل سسٹم کی سروس لائف کو بڑھاتا ہے، اور فوٹو لیتھوگرافی مشین کی مجموعی کارکردگی کو بڑھاتا ہے۔ میں
مضبوط کمپن مزاحمت اور تھرمل استحکام
فوٹو لیتھوگرافی کے عمل کے دوران، نینو میٹر کی سطح پر درستگی کا تقاضا ہے کہ فوٹو لیتھوگرافی مشین میں ہلکی سی کمپن یا تھرمل اخترتی نہیں ہونی چاہیے۔ ورکشاپ میں دیگر آلات کے آپریشن اور عملے کی نقل و حرکت سے پیدا ہونے والی ماحولیاتی کمپن، نیز آپریشن کے دوران فوٹو لیتھوگرافی مشین سے پیدا ہونے والی حرارت، سبھی فوٹو لیتھوگرافی کی درستگی میں مداخلت کر سکتی ہیں۔ گرینائٹ میں اعلی کثافت اور سخت ساخت ہے، اور اس میں کمپن مزاحمت بہترین ہے۔ اس کا اندرونی معدنی کرسٹل ڈھانچہ کمپیکٹ ہے، جو کمپن توانائی کو مؤثر طریقے سے کم کر سکتا ہے اور کمپن کے پھیلاؤ کو تیزی سے دبا سکتا ہے۔ تجرباتی اعداد و شمار سے پتہ چلتا ہے کہ اسی کمپن کے ذریعہ کے تحت، گرینائٹ بیس 0.5 سیکنڈ کے اندر اندر کمپن کے طول و عرض کو 90٪ سے زیادہ کم کر سکتا ہے۔ دھات کی بنیاد کے مقابلے میں، یہ سامان کو زیادہ تیزی سے استحکام پر بحال کر سکتا ہے، فوٹو لیتھوگرافی لینس اور ویفر کے درمیان قطعی رشتہ دار پوزیشن کو یقینی بناتا ہے، اور کمپن کی وجہ سے پیٹرن کو دھندلا پن یا غلط ترتیب سے بچا سکتا ہے۔ میں
دریں اثنا، گرینائٹ کے تھرمل توسیع کا گتانک انتہائی کم ہے، تقریباً (4-8) ×10⁻⁶/℃، جو دھاتی مواد سے بہت کم ہے۔ فوٹو لیتھوگرافی مشین کے آپریشن کے دوران، یہاں تک کہ اگر اندرونی درجہ حرارت روشنی کے منبع سے حرارت پیدا کرنے اور مکینیکل اجزا سے رگڑ جیسے عوامل کی وجہ سے اتار چڑھاؤ آتا ہے، گرینائٹ بیس جہتی استحکام کو برقرار رکھ سکتا ہے اور تھرمل توسیع اور سنکچن کی وجہ سے اہم اخترتی سے نہیں گزرے گا۔ یہ فوٹو لیتھوگرافی کی درستگی کی مستقل مزاجی کو برقرار رکھتے ہوئے آپٹیکل سسٹم اور پریزیشن موشن پلیٹ فارم کے لیے مستحکم اور قابل اعتماد مدد فراہم کرتا ہے۔